本實(shí)用新型涉及多弧離子鍍膜機(jī)，具體是一種多弧離子鍍膜機(jī)的間接水冷靶座電弧蒸發(fā)源。包括引弧機(jī)構(gòu)、靶塊、不銹鋼靶座、電弧屏蔽盤、電弧調(diào)節(jié)套、絕緣套、水管、電磁裝置，所述靶塊與所述不銹鋼靶座之間設(shè)置有紫銅板，所述紫銅板正面與所述靶塊緊密接觸，紫銅板外邊緣與不銹鋼靶座焊接為一體。本實(shí)用新型取消了靶塊與靶座之間的密封圈，利用紫銅傳熱效率高的特點(diǎn)，將紫銅板與不銹鋼靶座體焊接成一體形成靶塊的間接水冷結(jié)構(gòu)，從根本上解決了由于密封圈老化失效或密封不嚴(yán)造成漏水和漏氣，嚴(yán)重影響鍍膜室內(nèi)真空度和鍍膜環(huán)境，造成鍍膜質(zhì)量下降和檢查多個(gè)蒸發(fā)源是否漏氣漏水既繁瑣又不方便的技術(shù)難題，從而提高了蒸發(fā)源工作的穩(wěn)定性和鍍膜質(zhì)量。