本發(fā)明屬于微電子技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種信息處理方法、裝置、介質(zhì)、校正器、模組及設(shè)備?；诠忄徑?yīng)的仿真和校正，通過對工藝參數(shù)的預(yù)處理，使得相關(guān)的測試過程的效率提高、失效率降低，該方法對于光刻工藝窗口較窄的應(yīng)用場景，有較強的適應(yīng)性，在預(yù)設(shè)的焦距能量矩陣范圍內(nèi)，提升了信息獲取的效率。