1600℃水平式閃燒爐 475     

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GSL-1600X-FS3KW是一款1600℃水平式閃燒爐，專為快速燒結陶瓷材料而設計，配備3KW可編程交流電源，可通過電極法蘭將正負極電極絲引入剛玉樣品夾具，施加電場實現(xiàn)閃燒工藝。其最高溫度可達1600℃，采用硅鉬棒加熱元件，加熱區(qū)長度為290mm，推薦升溫速率為≤10℃/min。相較于傳統(tǒng)燒結工藝，該設備具有超快速、節(jié)能且有利于制備細晶化陶瓷的優(yōu)勢。其可廣泛應用于固體氧化物燃料電池、鐵電熱電陶瓷、固態(tài)電解質等領域的材料燒結。在冶金領域，這種快速燒結技術可用于研究陶瓷材料的微觀結構和性能，為開發(fā)高性能陶瓷基復合材料提供支持。

1650℃真空感應區(qū)熔爐 419     

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SKJ-1650-ZM是一款1650℃真空感應區(qū)熔爐，由15KW感應電源、密封石英管裝樣及測溫裝置、線圈和坩堝伺服升降機構、水冷機以及PLC控制系統(tǒng)組成。該設備最高溫度可達1650℃，可在真空或氣氛環(huán)境下實現(xiàn)材料的熔化提純、定向凝固以及單晶生長等實驗工藝。在冶金領域，SKJ-1650-ZM可用于金屬材料的凈化提純和定向凝固，幫助研究人員開發(fā)高性能金屬材料。

定向CVD生長爐 497     

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OTF-1200X-50-DSL是一款專為定向生長單壁碳納米管（SWCNTs）設計的水平滑軌式CVD生長爐，同時也適用于在硅片上生長低熔點金屬單晶。其爐管直徑為Φ50mm，爐體滑動速度可在1mm/s至100mm/s范圍內(nèi)調節(jié)，并支持左右反復滑動及自定義滑動距離，為實驗提供了高度的靈活性。該系統(tǒng)配備可設置30段程序的高溫爐、一根Φ50×1000mm的石英管和一套不銹鋼真空法蘭，能夠滿足多種材料生長的需求。在冶金領域，該設備可用于研究低熔點金屬的單晶生長機制，為開發(fā)高性能金屬材料提供重要的實驗支持。

100ml鎳基合金高溫高壓反應釜 448     

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RC-Ni-100是一款專為高溫高壓冶金實驗設計的100ml反應釜，采用鎳基高溫合金鋼制作，具有極高的蠕變強度和抗氧化性。該設備最高工作溫度可達1100℃，在該溫度下可承受最高壓力為4MPa，非常適合在高壓氧環(huán)境下對金屬樣品進行熱處理，以及通過水熱法合成高性能冶金材料。其優(yōu)異的耐高溫高壓性能，使其成為冶金領域研究和開發(fā)新型材料及工藝的理想工具。

晶體生長爐 478     

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SKJ-50CZ是一款高質量的CZ晶體生長爐，最高溫度可達2100℃，適用于冶金領域中高純度金屬單晶及氧化物單晶的生長。該設備可生長藍寶石、GGG、YAG、LaAlO?、Si、Ge等多種材料，最大晶體尺寸可達3英寸。其配備中/高頻切換復合感應電源，滿足不同材料的熔煉需求，同時采用高精度上稱重模式和在線稱量裝置，確保晶體生長過程的精確控制。此外，設備還具備高真空度（最高可達5.0×10?3Pa）和全不銹鋼水冷腔體，保證生長環(huán)境的穩(wěn)定。

1650℃布里奇曼單晶生長爐 376     

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SKJ-BG1650是一款高質量的1650℃布里奇曼單晶生長爐，適用于冶金領域中金屬單晶及多晶材料的生長。該設備最高溫度可達1650℃，已成功生長出Cu、Ag、Au、Fe和Mg等金屬單晶，單晶直徑可達37mm。它配備電動坩堝放置系統(tǒng)，便于樣品的放置和取出。此外，該設備還可用于多晶棒的定向凝固，在冶金材料的研究和開發(fā)中具有重要應用價值。

懸浮提拉晶體生長爐 363     

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SKJ-LCZ是一款特殊的提拉法（CZ）晶體生長爐，采用懸浮熔煉技術，最高溫度可達2000℃，適用于生長高純度金屬（合金）單晶。該設備由高頻感應加熱電源、高真空腔體、水冷銅坩堝（懸浮熔煉）和精密提拉機構組成。懸浮熔煉技術避免了坩堝對金屬樣品的污染，能夠生長出高純度的金屬單晶。這種爐體設計在冶金領域具有重要意義，尤其適用于高純金屬及合金的單晶生長，可廣泛用于研究和開發(fā)高性能金屬材料。

火焰法單晶生長爐 361     

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SKJ-VE2000是一款小型火焰法單晶生長爐，最高溫度可達2000℃，專門用于生長各種氧化物晶體，如SrTiO?、Al?O?和TiO?等。設備配備質量流量計，可精確調節(jié)氫氣和氧氣流量，同時通過調節(jié)料斗震動頻率控制粉料出料量，籽晶臺具備自動下降和轉動功能。在冶金領域，該設備可用于研究高性能氧化物晶體的生長機制，為開發(fā)新型冶金材料和優(yōu)化晶體生長工藝提供重要的實驗支持。

1800℃納米制備管式爐 464     

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GSL-1800X-PGEP是一款專為納米結構氧化物合成設計的多功能系統(tǒng)，廣泛應用于冶金領域。該系統(tǒng)由超聲霧化裝置、1800℃管式爐和靜電沉降裝置組成，通過前驅體霧化、高溫加熱和納米顆粒收集三個步驟，實現(xiàn)納米材料的精確制備。其獨特的設計能夠精準控制顆粒尺寸、形態(tài)以及納米/微粒結構，為冶金研究提供了一種先進的實驗手段，尤其適用于開發(fā)高性能納米復合材料和新型冶金催化劑，助力冶金工藝的創(chuàng)新與優(yōu)化。

三溫區(qū)頂部籽晶助溶劑法（TSSG）單晶生長爐 365     

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VTF-1200X-III-TSSG是一款3溫區(qū)頂部籽晶助熔劑法（TSSG）晶體生長爐。此設備主要由3部分組成：3溫區(qū)加熱爐（爐膛尺寸為：Φ127mm×600mm,最高溫度為1200℃），溫控系統(tǒng)可設置28段溫度程序段，控溫精度±1℃和精密旋轉提拉機構，其提拉速度為0.8-50mm/hour。

混合式小型晶體生長爐 399     

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OTF-1200X-SCB是一款小型晶體生長爐，適用于提拉法或布里奇曼法生長單晶，其最高溫度可達1100℃。設備主要由提拉機構和爐體組成，提拉機構具有提拉&旋轉功能，爐體采用立式雙溫區(qū)管式爐，爐管為直徑為Φ50mm的石英管，并且配有不銹鋼密封法蘭，此設備可采用提拉法（用籽晶從熔融態(tài)原來中提拉出單晶）或布里奇曼法（將樣品封入到小石英試管里，石英試管在加熱區(qū)內(nèi)向下移動）生長各種單晶。

真空懸浮感應熔煉爐＆澆注爐 365     

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FMF-65是一款落地式水冷坩堝真空懸浮感應熔煉爐系統(tǒng)，并且?guī)в雄釄鍍A倒裝置，可做金屬澆注實驗，可用于新一代磁性合金和金屬材料的探索研究。設備中包含一功率高達65KW的感應熔煉爐，可有效地加熱高達250g的金屬樣品（Ti），最高加熱溫度達1800℃。不銹鋼真空腔體保證樣品可在真空或氣氛保護環(huán)境下進行熔煉，采用特殊樣式的水冷銅坩堝使得金屬樣品能夠在熔煉過程中懸浮，避免了坩堝對物料的污染。熔煉過程中強烈的電磁攪拌也能夠保證其樣品內(nèi)部的溫度及化學成分的均一性。

2000℃高真空氣氛燒結爐 378     

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GSL-2000X-HV是一款高性能的高溫高真空氣氛燒結爐，最高燒結溫度可達2000℃，真空度高達10?? Torr（配備擴散泵），能夠滿足多種材料在不同氣氛條件下的燒結需求。設備安裝尺寸為1300mm×700mm×1750mm，重量為520kg，適用于高校、科研機構和企業(yè)實驗室進行高溫材料合成、陶瓷燒結、金屬加工等實驗，是材料科學研究和開發(fā)的理想設備。

1700℃氣氛保護小型金屬熔煉鑄造爐 367     

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IMCS-1700-S是一款小型金屬熔煉/鑄造爐，最高溫度可達1700℃，專為在惰性氣體保護環(huán)境下熔煉和鑄造各種合金設計，最大熔煉量約為80g。設備安裝尺寸為560mm×540mm×610mm（長×寬×高），重量為120kg，結構緊湊，適合實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境，是高校、科研機構及企業(yè)進行合金研發(fā)和材料實驗的理想選擇。

2000℃桌面型熔煉澆注爐 400     

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IMCS-2000-S是一款2000℃桌面型熔煉/澆注爐，配備可旋轉真空腔體，可在真空或氣氛保護環(huán)境下通過感應加熱熔煉各種金屬材料，最高溫度可達2000℃。其腔體旋轉功能可實現(xiàn)樣品澆注，操作便捷且高效。該設備安裝尺寸為430×490×500mm，重量僅48kg，體積小巧，適合實驗室環(huán)境，是探索新一代合金的理想工具。

1200℃熔煉/鑄造爐 367     

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VMCS-1200-LD是一款1200℃的熔煉/鑄造爐，適合在氣氛保護環(huán)境下熔煉各種合金，最高溫度可達1200℃。該設備采用封閉腔體設計，可有效防止樣品在熔煉和澆注過程中生成氧化物及形成缺陷。其石墨坩堝直徑為60mm，配備電阻絲加熱和石墨攪拌棒，能夠快速熔煉金屬，僅需6-8分鐘。此外，該設備操作簡單，只需設置鑄造溫度、添加樣品并擠壓操縱桿即可完成澆注。設備安裝尺寸為770mm×460mm×460mm，重量為54kg，配備雙極旋片真空泵，所需氣體流量為5L/min。

2000℃高真空感應熔煉/鑄造爐 461     

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IMCS-2000A是一款實驗型的感應熔煉&鑄造系統(tǒng)，可熔煉和澆注各種材料，最大量可達1kg,最高溫度可達2000℃在真空狀態(tài)（最高真空度可達10-4Pa）或惰性氣體保護狀態(tài)下。

2000℃溫度可控型高通量感應熔煉爐 397     

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SP-50KTC-M是一款溫度可控型高通量感應熔煉爐系統(tǒng)，可一次性熔煉多個直徑5-8mm的合金桿，溫度可高達2000℃，此設備特別適合于采用高通量方法進行新一代合金的研究制備。

1700℃溫控型真空感應加熱爐 350     

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SP-60KTC是一款MET標準的1700℃溫控型感應加熱/熔煉系統(tǒng)，帶進料前級系統(tǒng)和熔煉攪拌裝置。石英前級腔室可將各種原材料導入到熔煉坩堝內(nèi)，而不破壞主腔室的環(huán)境。此款設備特別適合制備各組分熔點相差較大的合金。

溫控型真空感應熔煉爐系列 433     

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SP-50KT/SP-85KTC溫控型真空感應熔煉爐系列是一款高性能的高溫感應熔煉設備，具備溫控型感應加熱和熔煉功能，配備進料前級系統(tǒng)和熔煉攪拌裝置，石英前級腔室可將原材料導入熔煉坩堝內(nèi)而不影響主腔室環(huán)境。該系列有兩種型號：SP-50KT和SP-85KTC，分別適用于不同容量的熔煉需求。

高壓氣氛控制感應熔煉/鑄造/造粒爐 466     

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IMCS-1700HP是一款高壓氣氛控制感應熔煉/鑄造/造粒爐，最高工作溫度可達1700℃，腔體可承受氣壓為1MPa，適用于處理1kg合金樣品。該設備采用三相380VAC電源，最大輸入功率為25kW，配備感應線圈尺寸為170mm（內(nèi)徑）×110mm（高），并具備自動水壓、過熱和功率過高保護功能。熔煉腔體采用SS304不銹鋼制作，帶有水冷夾層，確保工作時表面溫度低于60℃，并配備安全卸壓閥。溫控系統(tǒng)采用PID方式控溫，可設置30段升降溫程序，控溫精度為±5℃，連續(xù)工作溫度范圍為500℃~1600℃，短時間內(nèi)可達到1700℃。

32工位高通量手動電弧熔煉爐 457     

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SP-MAM-32是一款32工位的手動電弧熔煉系統(tǒng)，2個16工位水冷銅坩堝嵌入在手套箱中，熔煉過程全在手套箱里操作，其手套箱里的氧含量可控制到< 2 ppm。可手動移動氬弧腔到每個銅坩堝中，對金屬進行熔煉，其最高熔煉溫度可達3000℃。此設備特別適合于采用高通量方法來進行合金結構研究及相圖的完善。

小型電弧熔煉爐 393     

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SP-MSM208是一款小型電弧熔煉爐，帶有吸鑄系統(tǒng)，可以鑄造出直徑為6mm的金屬棒。通過真空吸附將熔融態(tài)的金屬迅速吸入到銅模中，得到縮孔較少的金屬棒。設備上安裝有樣品反轉桿，可在不破壞真空的環(huán)境下，對樣品進行翻轉。SS304不銹鋼腔體保證了一個潔凈的熔煉環(huán)境，可滿足各種嚴苛的實驗要求。

1200℃多坩堝同時移動型管式爐 436     

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OTF-1200X-Ⅱ-S2是一款雙溫區(qū)帶有升降雙通道進料系統(tǒng)的共蒸發(fā)多層沉積管式爐，通過升降雙通道進料系統(tǒng)可裝載4個不同材料的蒸發(fā)坩堝舟，并且可一次同時送入兩個蒸發(fā)坩堝源進入管式爐中進行共蒸發(fā)或反應蒸發(fā)。雙溫區(qū)管式爐可以實現(xiàn)快速加熱，并且通過對各個溫區(qū)設置不同的加熱溫度可以創(chuàng)建不同的溫度梯度從而實現(xiàn)蒸發(fā)沉積。雙通道進料系統(tǒng)可以在程序控制下將2個裝載不同蒸發(fā)料的坩堝一同推進拉出，實現(xiàn)共蒸發(fā)或者反應蒸發(fā)，特別適用于多層二維晶體材料的制備。

微型真空懸浮感應熔煉爐 456     

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SPG-6VMS是一款微型真空懸浮感應熔煉系統(tǒng)，特別適合新一代磁性材料及金屬合金的探索研究。成套設備中包括一6KW的高頻感應熔煉爐，還包括了真空泵和石英管使樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下進行熔煉，而且含有一特殊設計的螺旋錐型銅線圈，使得樣品在熔煉過程中產(chǎn)生微懸浮，保證樣品不被雜質污染，熔融金屬內(nèi)部產(chǎn)生磁渦流，得到高純的金屬單質或是成分均勻的合金鑄錠。

真空管式搖擺爐 442     

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GSL-1100X-SK是一款真空管式搖擺爐，最高溫度可達1100℃，30段可編程精密溫度控制器,可根據(jù)不同的客戶需求來設定升降溫程序，控溫精度±1℃，設備配備有一搖速可調的搖床，速度范圍為10-70rpm，傾斜角度可達9°。可通過搖擺提高熔體均勻性、細化晶粒，廣泛應用于熱電材料制備工藝中。

1100℃小型坩堝爐 477     

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KSL-1100X-SV是一款通過CE認證的小型坩堝爐，此爐適用于熔煉各種金屬，如Al, Au,Li In ， Li， Mg等等，其最高溫度可達1100℃，同時也可用于各種材料的退火和燒結。可設置30段升降溫程序，控溫精度為+/- 1oC。

1100℃電動開啟式三溫區(qū)管式爐 491     

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OTF-1100X-15-III是一款通過CE認證的三溫區(qū)管式爐，采用15英寸石英爐管及不銹鋼密封法蘭（安裝有不銹鋼截止閥和機械壓力表）。爐體設計為電動開啟式。三個溫區(qū)獨立控制，可設置30段升降溫曲線，帶有超溫和短偶保護，控溫精度為+/-0.5 oC。此款設備廣泛應用于各種材料在真空或氣氛保護環(huán)境下的熱處理。

1200℃小型四溫區(qū)開啟式管式爐 358     

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OTF-1200X-IV-S是一款迷你型的4溫區(qū)管式爐，所有電器元件都通過了UL / MET / CSA認證。此款管式爐最高工作溫度1100℃，共有4個溫區(qū)，每個溫區(qū)長度為100mmL爐管直徑為25mm或50mm,并配有一套不銹鋼密封法蘭，可對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下進行熱處理。每個溫區(qū)由獨立的溫控系統(tǒng)控制，都可設置30段升降溫程序，控溫精度為+/-1℃。

1200℃五溫區(qū)管式爐 367     

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OTF-1200X-V是一款通過CE認證的是五溫區(qū)開啟式管式爐，每個溫區(qū)分別由五個獨立溫控系統(tǒng)單獨控制，通過調節(jié)各個溫區(qū)的溫度，可以在加熱區(qū)內(nèi)形成四段溫度梯度或是形成較長的恒溫區(qū)域。每個控溫系統(tǒng)都采用PID方式調節(jié)，可以設置30段升降溫程序，采用K型omega熱電偶進行溫度的測量和控制，其控溫精度可以達到+/- 1℃。