設備介紹

滑道式PECVD系統(tǒng)由PT-1200T管式爐加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、質(zhì)量流量計供氣系統(tǒng)、等離子射頻電源系統(tǒng)組成。借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。 該系統(tǒng)廣泛應用于沉積高質(zhì)量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學薄膜和炭納米管(CNT)、石墨烯材料等。

產(chǎn)品優(yōu)勢

成品質(zhì)量好

PECVD具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質(zhì)量好、針孔較少、不易龜裂等優(yōu)點

沉積效果好

等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜

智能多段PID可編程

溫控系統(tǒng)采用PID智能化程序控溫，自整定功能并可編制多段升降溫程序

技術參數(shù)

產(chǎn)品名稱 滑道式PECVD系統(tǒng)

滑軌管式爐部分

產(chǎn)品型號 KJ-T1200-S6044-LK-Z

加熱區(qū)長度 440mm(其他尺寸可根據(jù)客戶需求定制)

爐管直徑 直徑60mm(其他尺寸可根據(jù)客戶需求定制)

工作溫度 ≦1100℃

最高溫度 1200℃

測溫元件 N型熱電偶

溫控系統(tǒng) PID微電腦可編程自動控制

控溫精度 ±1℃

溫控保護 具有超溫和斷偶保護功能

升溫速率 0-10℃/min

加熱元件 電阻絲

滑軌設計 能實現(xiàn)快速升降溫

爐膛材料 采用多晶纖維爐膛材料，材料保溫性能好、反射率高、溫場均衡

密封系統(tǒng) 該爐爐管與法蘭之間采用O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復撤卸，氣密性好

爐 管 高純石英管

法 蘭 不銹鋼法蘭，方便拆卸，放取材料

真空系統(tǒng)部分

名稱 高真空分子泵組

主要參數(shù) 真空泵極限真空度10-3 pa(包含KF25接口和可移動箱體)

氣路系統(tǒng)部分

名稱 四路質(zhì)量流量計

氣路 四路

流量控制 每路氣體含有針閥單獨控制

流量計 質(zhì)量流量計

等離子電源系統(tǒng)

匹配功率范圍 0-500W

工作頻率 13.56MHZ+0.005%

控制模式 手動/自動

售后服務 質(zhì)保一年，終身保修(耗材類：高溫密封圈、爐管、加熱元件等不屬于質(zhì)保范圍)