權(quán)利要求書： 1.一種陶瓷基復(fù)合材料表面耐溫達(dá)1300℃的可磨耗復(fù)合涂層的制備方法，其特征在于該制備方法具體是按以下步驟完成的：一、基材的預(yù)處理：去除基材表面的雜質(zhì)和油污，再在基材表面制備具備機(jī)械錨定的微織構(gòu)，得到預(yù)處理后的基材；步驟一中所述的基材為陶瓷基質(zhì)復(fù)合材料；所述的陶瓷基質(zhì)復(fù)合材料為C/C、SiC/SiC、C/SiC或SiC/Si3N4；步驟一中在基材表面制備具備機(jī)械錨定的微織構(gòu)的方法是：在高純氧氣氣氛下，采用激光毛化技術(shù)，在基材表面形成具備機(jī)械錨定的微織構(gòu)；所述的具備機(jī)械錨定的微織構(gòu)的形狀為方格、韌窩和凹槽中的一種或其中幾種的組合；步驟一中所述的激光毛化技術(shù)的工藝參數(shù)：功率10～20kW，掃描速率200～800mm/s，頻率40～80kHz；二、制備粘結(jié)層：①、對(duì)預(yù)處理后的基材進(jìn)行短時(shí)原位高溫?zé)崽幚砘螂x位高溫?zé)崽幚恚玫綗崽幚砗蟮幕?；②、采用大氣等離子噴涂法將粘結(jié)層粉體噴涂到熱處理后的基材表面，得到表面含有粘結(jié)層的基材；步驟二②中所述的粘結(jié)層粉體為Si/HfO2粉體，其中所述的Si/HfO2粉體中Si粉和HfO2粉的質(zhì)量比為(30～70):(70～30)；步驟二②中所述的粘結(jié)層的厚度為25μm～100μm；三、制備環(huán)境障礙層：采用大氣等離子噴涂法將環(huán)境障礙層粉體噴涂到表面含有粘結(jié)層的基材表面，得到表面含有環(huán)境障礙層的基材；步驟三中所述的環(huán)境障礙層粉體為Yb2Si2O7/Yb2SiO5粉體，其中所述的Yb2Si2O7/Yb2SiO5粉體中Yb2Si2O7粉和Yb2SiO5粉的質(zhì)量比為(25～75):(75～25)；步驟三中所述的環(huán)境障礙層的厚度為50μm～200μm；四、制備可磨耗封嚴(yán)涂層：采用大氣等離子噴涂法將可磨耗封嚴(yán)涂層粉體噴涂到表面含有環(huán)境障礙層的基材表面，得到表面含有可磨耗封嚴(yán)涂層的基材，即完成一種陶瓷基復(fù)合材料表面耐溫達(dá)1300℃的可磨耗復(fù)合涂層的制備；步驟四中所述的可磨耗封嚴(yán)涂層粉體由陶瓷骨架、潤滑劑和造孔劑制備而成，其中陶瓷骨架的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為80％～92％，潤滑劑的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為4％～10％，造孔劑的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為4％～10％；步驟四中所述的陶瓷骨架為氧化物穩(wěn)定氧化鉿、稀土鉭酸鹽或稀土鈮酸鹽；步驟四中所述的可磨耗封嚴(yán)涂層的厚度為50μm～500μm。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷基復(fù)合材料表面耐