權(quán)利要求 1.一種電解法生產(chǎn)鎳箔的方法，其特征在于，以貴金屬板為陽(yáng)極，以鈦板為陰極，將所述陽(yáng)極和所述陰極均置于電解液中，通直流電進(jìn)行電解，在所述鈦板上電沉積制備鎳箔; 所述電解液包含水及以下濃度的各組分： 硫酸鎳300～600g/L; pH緩沖劑10～40g/L; 光亮劑0.05～2g/L; 潤(rùn)濕劑0.005～0.2g/L; 所述電解液的pH為1～5，所述電解過(guò)程中，電解溫度為50～75℃，電流密度為20～80A/dm2。 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解法生產(chǎn)鎳箔的方法，其特征在于，所述貴金屬陽(yáng)極板選自鉑銠、銠銥、鉑銠銥貴金屬板中的一種。 3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解法生產(chǎn)鎳箔的方法，其特征在于，所述潤(rùn)濕劑選自十二烷基硫酸鈉、2-乙基已基硫酸鈉、丁二酸二己酯磺酸鈉、丁二酸二戊酯磺酸鈉中的一種或者多種; 優(yōu)選地，所述潤(rùn)濕劑選自丁二酸二己酯磺酸鈉或丁二酸二戊酯磺酸鈉中的一種或二者的混合; 優(yōu)選地，所述潤(rùn)濕劑的濃度為0.05～0.1g/L。 4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解法生產(chǎn)鎳箔的方法，其特征在于，所述光亮劑為選自由糖精、4-羥基-2-丁炔基-2-羥烷基醚、1,4-丁炔二醇、2-丙炔基-2-羥烷基醚、烯丙基磺酸鈉、丙炔醇、甘油單丙炔醚、磺基丙炔醚鈉鹽和羰基化合物磺酸鈉鹽中的一種或多種; 優(yōu)選地，所述光亮劑的濃度為0.2～2g/L。 5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解法生產(chǎn)鎳箔的方法，其特征在于，所述pH緩沖劑選自硼酸、檸檬酸鈉中的一種或二者的混合; 優(yōu)選地，所述pH緩沖劑的濃度為30～40g/L。 6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解法生產(chǎn)鎳箔的方法，其特征在于，所述硫酸鎳的濃度為320～400g/L。 7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解法生產(chǎn)鎳箔的方法，其特征在于，所述電解液的pH為2.5～4.5，所述電解溫度為55～65℃，所述電流密度為30～40A/dm2。 8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解法生產(chǎn)鎳箔的方法，其特征在于，所述陽(yáng)極和所述陰極的兩極間距為5～20mm; 優(yōu)選地，所述兩極間距為10～20mm。 9.根據(jù)權(quán)