權(quán)利要求 1.鉬合金濺射靶材的制備工藝，其特征在于：所述的靶材制備工藝主要包括如下步驟： S1、原料配比：靶材所用原料均為粉末狀，包括合計(jì)原子百分比占比為0.5％--40％的Ga、Ni、Nd元素組中的至少一種和原子比0.5％--40％的Ti作為摻雜金屬，余量為Mo和不可避免的雜質(zhì)； S2、原料混合：根據(jù)所需生產(chǎn)的質(zhì)量數(shù)或體積數(shù)，按照S1中的原料組分進(jìn)行配比，并將各組分在真空或者保護(hù)氣環(huán)境下進(jìn)行原料混合攪拌，得到混合粉末； S3、膠套裝粉定型：將S2中得到的混合粉末裝入膠套，然后將膠套進(jìn)行密封，并對膠套進(jìn)行整形使得膠套保持長方體形狀或其他需要的形狀； S4、冷等靜壓作業(yè)：將S3中裝粉完成的壓制坯膠套放入冷等靜壓機(jī)壓制得到壓制坯； S5、熱等靜壓作業(yè)：將S4中得到的壓制坯進(jìn)行熱等靜壓處理后得到燒結(jié)坯； S6、熱軋作業(yè)：將S5中得到的燒結(jié)坯進(jìn)行熱軋制，得到板坯； S7、機(jī)加工作業(yè)：將S6中得到板坯進(jìn)行機(jī)加工作業(yè)得到最終所需產(chǎn)品尺寸。 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鉬合金濺射靶材的制備工藝，其特征在于：所述步驟S1中選用的原料粉純度不低于99.9％，粒度介于1.5μm—50μm之間。  3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鉬合金濺射靶材的制備工藝，其特征在于：所述步驟S1中元素Ga、Ni、Nd中的至少一種合計(jì)比例為原子比0.5％--40％，Ti原子比為0.5％--40％，其余為Mo及不可避免的雜質(zhì)元素。  4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鉬合金濺射靶材的制備工藝，其特征在于：所述步驟S4冷等靜壓作業(yè)中，壓力緩慢升壓至150MPa-400MPa后，保壓3-10分鐘，然后泄壓，最后將壓制坯從膠套取出。  5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鉬合金濺射靶材的制備工藝，其特征在于：所述步驟S5熱等靜壓作業(yè)中，作業(yè)壓力為150MPa-300MPa，作業(yè)溫度為800℃-1200℃。  6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鉬合金濺射靶材的制備工藝，其特征在于：所述步驟S6熱軋作業(yè)中，熱軋制加熱溫度控制為800℃-1200℃，熱軋后退火去除應(yīng)力，退火溫度控制為800℃-1200℃。  7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鉬合金濺射靶材的制備工藝，其特征在于：所述步驟S2中混料所用的混料機(jī)位V