低密度炭/炭復(fù)合材料C/SiC復(fù)合涂層及其制備工藝，該復(fù)合涂層由內(nèi)封孔層和外涂層兩部分組成；所述內(nèi)封孔層由以下重量百分比的原料制成：碳化硅粉10%～60%，硅粉1%～25%，石墨粉0.05%～8%，聚丙烯腈研磨碳纖維1%～10%，硅溶膠40%～80%；所述外涂層由以下重量百分比的原料制成：碳化硅粉10%～30%，樹脂40%～60%，稀釋劑30%～70%，固化劑1%～6%。本發(fā)明還包括所述低密度炭/炭復(fù)合材料C/SiC復(fù)合涂層的制備工藝。本發(fā)明之低密度炭/炭復(fù)合材料C/SiC復(fù)合涂層具有較好抗氧化能力，涂層與基體材料的結(jié)合力好，表面致密，無裂紋產(chǎn)生，無落粉現(xiàn)象。