本發(fā)明公開了本發(fā)明涉及一種真空電子束鍍膜的方法，屬于鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種成本低、無污染、高效率、高質(zhì)量的鍍厚膜的方法，該方法采用真空電子束鍍膜，包括：將鍍膜金屬置入真空電子束鍍膜裝置中，以鐵基材料為基底材料，將基底材料溫度加熱至400～1200℃，設(shè)置電子束功率不小于20KW，控制電子束爐工作腔真空度為10～10?3Pa，進(jìn)行鍍膜，鍍膜完成，冷卻至不超過300℃，得鍍膜復(fù)合材料。本發(fā)明方法可獲得鍍膜厚度大、耐腐蝕的鍍膜復(fù)合材料，具有低成本、無污染、速度快和高效率的特點(diǎn)。