本發(fā)明涉及一種遮蔽裝置及補(bǔ)鋰設(shè)備，遮蔽裝置包括驅(qū)動(dòng)組件和環(huán)形遮蔽片，環(huán)形遮蔽片包括遮蔽片主體和遮蔽部，遮蔽片主體設(shè)有補(bǔ)鋰開口，遮蔽部位于補(bǔ)鋰開口內(nèi)；環(huán)形遮蔽片與驅(qū)動(dòng)組件連接，驅(qū)動(dòng)組件用于驅(qū)動(dòng)環(huán)形遮蔽片運(yùn)動(dòng)，以使遮蔽部在靶材安裝機(jī)構(gòu)與基片之間的區(qū)域與基片同步運(yùn)動(dòng)，且遮蔽部的正投影至少部分位于基片上，以用于在補(bǔ)鋰時(shí)使基片上形成電極區(qū)和留白區(qū)。該遮蔽裝置在使用時(shí)，環(huán)形遮蔽片可與基片的收放卷裝置同步運(yùn)轉(zhuǎn)，使遮蔽部在靶材安裝機(jī)構(gòu)與基片之間的區(qū)域與基片同步運(yùn)動(dòng)，遮蔽部與基片相對靜止，從而在補(bǔ)鋰區(qū)間內(nèi)持續(xù)對基片上的特定區(qū)域進(jìn)行遮蔽，確?；碾姌O區(qū)可以有效進(jìn)行濺射，而防止被遮蔽的區(qū)域鍍膜，從而形成留白區(qū)。