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PMMA包覆的中空Sn-Ni合金納米線陣列、其制備方法及其應(yīng)用

1048 編輯：管理員來源：中冶有色網(wǎng)

2023-03-18 23:14:01

本發(fā)明公開了一種PMMA包覆的中空Sn-Ni合金納米線陣列、其制備方法及其在鋰電池負極材料中的應(yīng)用。本發(fā)明包括步驟：1）以AAO為模板恒流電沉積法制備Ni納米線；2）以Ni納米線為模板，通過電流置換反應(yīng)制備中空Sn-Ni合金納米線陣列；3）利用MMA原位本體聚合的方法在單根納米線與AAO形成的圓環(huán)形孔隙內(nèi)原位生成20-30nm的PMMA高分子薄膜，得到PMMA包覆的中空Sn-Ni合金納米線陣列。以制得的PMMA包覆的中空Sn-Ni合金納米線陣列為負極組裝鋰離子電池，50次循環(huán)后可逆比容量保持在0.84mAhcm-2，這主要得益于高分子的柔性和其內(nèi)部中空結(jié)構(gòu)對體積膨脹的緩沖作用。

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“PMMA包覆的中空Sn-Ni合金納米線陣列、其制備方法及其應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術(shù)所有人。

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