本發(fā)明屬于材料化學(xué)領(lǐng)域，涉及一種涂層，具體為一種zrmgn納米結(jié)構(gòu)薄膜及其制備方法和應(yīng)用。 背景技術(shù)： 由于切削工具或者機(jī)械零件常常在一些極端的環(huán)境下服役，所以要求其表面具有較高的硬度、較低的摩擦系數(shù)、良好的耐腐蝕性以及良好的高溫穩(wěn)定性能。薄膜技術(shù)是改善材料表面性能的重要手段。然而，現(xiàn)代加工制造業(yè)的飛速發(fā)展使得傳統(tǒng)的二元氮化物難以滿足其要求，亟需開發(fā)一系列兼具諸如力學(xué)性能、高溫?zé)岱€(wěn)定性能和摩擦磨損性能等更高優(yōu)異性能的新型材料。zrn因具有高熔點(diǎn)、高硬度、良好的化學(xué)穩(wěn)定性而受到研究者關(guān)注。近年來不少學(xué)者研究了zrcn、zragn、zrwn等體系的力學(xué)性能和摩擦磨損性能，發(fā)現(xiàn)添加第三種元素后，力學(xué)性能及摩擦磨損性能均得到改善，但在高溫下的抗氧化溫度還比較低。因此，與當(dāng)代加工制造業(yè)所要求的寬溫域涂層相比，此類硬質(zhì)涂層的高溫抗氧化性能仍有不足。 技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素： 解決的技術(shù)問題：為了克服現(xiàn)有zrn系硬質(zhì)納米結(jié)構(gòu)復(fù)合薄膜及多層膜高溫抗氧化性能不理想的缺點(diǎn)，獲得一種兼具高硬度、優(yōu)異的摩擦磨損性能及高溫抗氧化性能，且可用于高速、干式切削的納米結(jié)構(gòu)硬質(zhì)薄膜，本發(fā)明提供了一種zrmgn納米結(jié)構(gòu)薄膜及其制備方法和應(yīng)用。 技術(shù)方案：一種zrmgn納米結(jié)構(gòu)薄膜，所述薄膜分子式表示為(zr,mg)n，薄膜以zrn為過渡層，薄膜的厚度為2～3μm。 優(yōu)選的，所述薄膜的顯微硬度為20.937gpa～25.248gpa，顯微硬度隨著mg靶功率的增加先增大后下降，在mg靶功率為50w時(shí)，顯微硬度達(dá)到最大值25.248gpa。 優(yōu)選的，所述薄膜的彈性模量為239.049gpa～350.316gpa，彈性模量隨著mg靶功率的增加先增大后下降，在mg靶功率為30w時(shí)，彈性模量達(dá)到最大值350.316gpa。 優(yōu)選的，常溫條件下，隨著mg靶功率的增加，所述薄膜的摩擦系數(shù)先減小后增大，磨損率逐漸減小。 優(yōu)選的，mg靶功率為50w時(shí)，干切削實(shí)驗(yàn)中溫度從室溫升高至700℃的條件下，所述涂層的摩擦系數(shù)隨著溫度的升高先增大后減小，700℃時(shí)達(dá)到最低值，磨損率始終增大。 以上任一所述zrmgn納米結(jié)構(gòu)薄膜的制備方法，所述方法為采用zr靶和mg靶為原材料，以氬氣為起弧，氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體，氬氮?dú)怏w流量比為10sccm:2sccm，真空度低于6.0×10-4pa時(shí)濺射，在室溫下采用雙靶共焦射頻反應(yīng)磁控濺射法濺