本發(fā)明涉及光伏電池生產設備技術領域，尤其涉及一種氧化鋁沉積設備及供氣方法。 背景技術： 氧化鋁鍍膜技術廣泛應用于晶硅太陽能電池、薄膜太陽能電池等新能源領域，現有的氧化鋁鍍膜技術主要有ald(原子層沉積)法、cvd(化學氣相沉積)法和溶膠凝膠等濕化學方法等，其中，cvd法應用廣泛，cvd法是指把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜的過程。 在等離子體沉積氧化鋁膜的工藝中，需要用氬氣攜帶三甲基鋁(tma)進入到反應倉中與n2o進行反應。傳統氧化鋁沉積設備的氣路設計如圖1所示，液體三甲基鋁通過第一氣動閥6進入液體蒸發(fā)器控制系統3中，氬氣通過第二氣動閥7進入液體蒸發(fā)器控制系統3中，從而攜帶三甲基鋁進入反應倉5中進行反應，但在實際操作過程中，往往會存在因氬氣的純度不足而發(fā)生堵塞液體蒸發(fā)器控制系統3的現象，考慮到攜帶三甲基鋁所需的氬氣量比較小，因此，目前大多做法是通過降低氬氣的流量，來減小液體蒸發(fā)器控制系統3的堵塞概率。 但是在反應倉中，氧化鋁的生成涉及以下反應方程式： 2al(ch3)3+5ar+20n2o→al2o3+2co2+4co+9h2o+20n2+5ar 由上述反應方程式可以看出，雖然氬氣為用于攜帶三甲基鋁的氣體，不參與反應，但是，當有氬氣的存在時會消耗更多的n2o，從而促進三甲基鋁的完全反應。如果單純依靠降低氬氣流量來降低堵塞概率，則在后續(xù)氧化鋁的反應過程中會因氬氣含量不足而無法使三甲基鋁充分反應，影響鍍膜品質及生產產能。 技術實現要素： 本發(fā)明的目的之一在于克服現有技術中所述的缺陷，從而提供一種氧化鋁沉積設備，該氧化鋁沉積設備不僅可以有效降低的堵塞概率，而且還能提升鍍膜片的品質和生產產能，同時提升自動化上下料設備的開機速率。 本發(fā)明的基礎方案為： 一種氧化鋁沉積設備，包括三甲基鋁儲液倉、氬氣源、以及依次連通的液體蒸發(fā)器控制系統、混氣管和反應倉； 所述三甲基鋁儲液倉具有送液管，所述送液管與所述液體蒸發(fā)器控制系統連通；所述氬氣源具有并聯設置的第一送氣管和第二送氣管；所述第一送氣管與所述液體蒸發(fā)器控制系統連通；所述第二送氣管與所述混氣管連通，以向所述混氣管中補入氬氣，形成通入所述反應倉中的工藝氣體。 本發(fā)明中所說的液體蒸發(fā)控制系統是一個可以被應用于大氣或者真空工業(yè)加工過程中的