對開式罩式爐 232     

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對開式罩式爐的用途：可供金屬材料、零件的正火、淬火、回火等熱處理。以實用、新穎而著稱。

強對流罩式爐 343     

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適用于紫銅、黃銅、合金銅的帶卷、盤管、矽鋼片等無氧光亮熱處理。

升降罩式爐 173     

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升降式罩式爐廣泛應(yīng)用于磁性材料、電子陶瓷元件、粉末冶金等產(chǎn)品的預(yù)燒和燒結(jié)，也可以滿足特種電子陶瓷元件在保護(hù)氣氛下燒結(jié)之用。

大型移動罩式爐 176     

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大型移動罩式爐主要用于特殊大件不銹鋼元、板、合金材料、固熔等1200℃內(nèi)工藝熱處理。同時也可以用于一般金屬材料、焊接結(jié)構(gòu)件預(yù)熱、時效，在氧化性氣氛下進(jìn)行正火、退火、淬火等熱處理加熱。

臺車式真空光亮退火爐 176     

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臺車式真空光亮退火爐的結(jié)構(gòu)，采用纖維結(jié)構(gòu)，復(fù)合式高鋁瓷釘組，臺車防撞擊密封磚，自動密封臺車和爐門，一體化連軌，不需基礎(chǔ)安裝，放在水平地面即可使用。主要用于銅管、銅機件等在真空中熱處理之用。

全纖維臺車式電阻爐 231     

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全纖維臺車式電阻爐主要用于高錳鋼鑄件、球墨鑄鐵、軋輥、鋼球、45鋼、不銹鋼等淬火、退火、時效以及各?種機械零件熱處理之用。

大型臺車式回火爐 169     

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大型臺車式回火爐（以下簡稱電爐），主要供一般大、中型金屬或合金機件在額定溫度下熱處理之用。

全纖維高溫臺車爐 180     

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用途：主要用于高鉻、高錳鋼鑄件、球墨鑄鐵、軋輥、鋼球、45鋼、不銹鋼等1200℃以下淬火、退火以及各種機械零件熱處理之用。

燃?xì)馐脚_車爐 229     

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燃?xì)馀_車爐是以燃燒天燃?xì)獾瓤扇細(xì)怏w為主要加熱方式，主要用于齒輪、模具、各種鍛件坯料、鍛打前快速加熱，也可用于各種機械零件淬 火、正火、退火等熱處理。我公司設(shè)計制造燃?xì)馀_車爐，結(jié)構(gòu)及管道設(shè)計先進(jìn)的多點燃燒方式，上位機全自動控制爐內(nèi)溫度，控溫精度和均 溫度高。

全釬維臺車式電阻爐 228     

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全釬維臺車式電阻爐主要用于高鉻、高錳鋼鑄件、球墨鑄鐵、軋輥、鋼球、45鋼、不銹鋼等淬火、退火、時效以及各種機械零件熱處理之用。

雙爐門臺車爐 338     

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用途：主要用于高鉻、高錳鋼鑄件、球墨鑄鐵、軋輥、鋼球、45鋼、不銹鋼等淬火、退火、時效以及各種機械零件熱處理之用。

雙頭臺車式電阻爐 166     

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雙頭臺車式電阻爐用途：各種金屬機件和材料的回火、淬火、預(yù)熱等熱處理。

翻轉(zhuǎn)式臺車爐 350     

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RT3系列翻轉(zhuǎn)式臺車式電阻爐的臺車采用防撞擊密封磚，自動翻磚機構(gòu)，自動密封臺車和爐門，一體化連軌，不需基礎(chǔ)安裝，放在水平地面與基礎(chǔ)墊鐵或膨脹螺絲固定即可使用。主要用于高鉻、高錳鋼鑄件、球墨鑄鐵、軋輥、鋼球、45鋼、不銹鋼等淬火、退火、時效以及各種機械零件熱處理之用。

大型臺車燃?xì)鉅t 460     

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大型臺車燃?xì)鉅t爐屬周期作業(yè)式電阻爐，主要供軋輥或其它合金鋼件在低于1200℃以下加熱之用。

低溫臺車爐 346     

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1、臺車行走及爐門升降均為電動、勞動強度小； 2、爐襯采用新型復(fù)合爐襯，積蓄熱少，加熱均勻；

臺車加熱爐 354     

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臺車加熱爐屬于周期式作業(yè)爐，采用復(fù)合纖維保溫，超輕質(zhì)高強度微珠真空球磚，獨家生產(chǎn)防掉絲上斜20°擱絲磚，爐口防工件撞擊磚，自動密封臺車和爐門，一體化連軌，不需基礎(chǔ)安裝，放在水平地面即可使用。主要用于高鉻、高錳鋼鑄件、灰口鑄鐵件、球墨鑄鐵件、軋輥、鋼球、破碎機錘頭、耐磨襯板淬火、退火、時效以及各種機械零件熱處理之用。

臺車回火爐 176     

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臺車回火爐主要供一般大、中型金屬或合金機件在額定溫度下熱處理之用的回火爐，也可用于高鉻鑄鋼軋輥回火、軋輥表面焊接修復(fù)后消除焊接應(yīng)力回火及其他用途回火,屬于周期作業(yè)回火爐,采用微電腦程序工藝曲線自動控溫柜,全自動高精度執(zhí)行較好的回火工藝曲線。

大型高溫臺車爐 460     

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大型高溫臺車爐主要適用于鋼廠、特鋼、機械加工、化機、重工、冶金冶煉、鑄造、鍛造、法蘭環(huán)件、鋼構(gòu)件、拉絲、環(huán)保設(shè)備、機械配套企業(yè)、裝載機、柴油機、等行業(yè)的熱處理車間高溫加熱用。

PECVD帶尾氣處理裝置 184     

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等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)是一種利用輝光放電(等離子體)反應(yīng)生成含有氣態(tài)物質(zhì)的薄膜的薄膜生長技術(shù)。該系統(tǒng)由高功率射頻電源、真空系統(tǒng)、管式爐組成，配備噴淋塔、活性炭箱，滿足尾氣處理的需要。該設(shè)備是為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng)，反應(yīng)氣體在輝光放電等離子體中能受激分解、離解和離化，從而大大提高了反應(yīng)物的活性

CVD管式爐 350     

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該CVD管式爐適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、材料的氣氛燒結(jié)等實驗。主要用于大學(xué)，研究中心和生產(chǎn)企業(yè)進(jìn)行氣相沉積相關(guān)的實驗與生產(chǎn)。

1100度CVD管式爐 188     

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這款CVD管式爐廣泛用于樣品在真空和氣氛條件下的燒結(jié)、涂層、納米管研究、釬焊、退火等實驗，適用于高校、研究機構(gòu)實驗室和工礦企業(yè)進(jìn)行CVD工藝的科研和實驗。

自動壓力控制CVD管式爐 181     

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主要用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等工業(yè)真空燒結(jié)、保護(hù)氣氛燒結(jié)、CVD實驗、真空沉積、材料成分測定場合。

三溫區(qū)CVD管式爐 159     

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該設(shè)備適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實驗。主要用于大學(xué)，研究中心和生產(chǎn)企業(yè)進(jìn)行氣相沉積相關(guān)的實驗與生產(chǎn)。

LCD觸摸屏CVD高溫爐 180     

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這款CVD爐可用于碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實驗。

化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 241     

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適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實驗。

PECVD旋轉(zhuǎn)管式爐 463     

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適用于粉體材料的表面薄膜沉積，在超大規(guī)模集成電路、光電器件、MEMS等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。

管式PECVD等離子氣相沉積系統(tǒng) 180     

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PECVD等離子氣相沉積設(shè)備是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜, 該系統(tǒng)主要用于金屬粉末鍍膜。

兩通道CVD系統(tǒng) 189     

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本CVD系統(tǒng)帶水冷法蘭雙路流量計并配有雙極旋片泵、水冷機、數(shù)字真空計且該CVD系統(tǒng)可抽真空、通氣氛，該設(shè)備適用于各種CVD實驗。

CVD 化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 355     

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CVD 管式爐系統(tǒng)由：管式爐加熱區(qū)系統(tǒng)，質(zhì)子流量計供氣系統(tǒng)，真空系統(tǒng)和氣體定量系統(tǒng)組成。適用于 CVD 工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基 片導(dǎo)電率測試、ZnO 納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容 (MLCC) 氣氛燒結(jié)等實驗。

六通道PECVD設(shè)備 182     

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該pecvd設(shè)備是由管式爐真空泵和六通道質(zhì)量流量計氣體流動系統(tǒng)組成的。它可以混合1-6種氣體用于PECVD或擴散。