權(quán)利要求書: 1.一種納米材料的自動(dòng)化研磨設(shè)備,包括底座,其特征在于,所述底座頂部安裝有第一研磨結(jié)構(gòu),所述底座頂部安裝有第二研磨結(jié)構(gòu);
其中,所述第一研磨結(jié)構(gòu)包含有:第一研磨倉(cāng)、支撐架、第一進(jìn)料斗、第一電機(jī)、兩個(gè)第一研磨輥、兩個(gè)承接座、兩個(gè)復(fù)位彈簧、篩分板以及振動(dòng)機(jī);
所述第一研磨倉(cāng)通過(guò)支撐架安裝于所述底座頂部,所述第一進(jìn)料斗安裝于所述第一研磨倉(cāng)頂部,所述第一電機(jī)安裝于所述第一研磨倉(cāng)側(cè)壁,并且所述第一電機(jī)驅(qū)動(dòng)端與兩個(gè)所述第一研磨輥一端,兩個(gè)所述第一研磨輥另一端與所述第一研磨倉(cāng)內(nèi)壁連接,兩個(gè)所述承接座分別安裝于所述第一研磨倉(cāng)兩側(cè)內(nèi)壁,兩個(gè)所述復(fù)位彈簧分別安裝于兩個(gè)所述承接座頂部,所述篩分板安裝于兩個(gè)所述復(fù)位彈簧頂部,所述振動(dòng)機(jī)與所述篩分板連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米材料的自動(dòng)化研磨設(shè)備,其特征在于,所述第二研磨結(jié)構(gòu)包含有:第二研磨倉(cāng)、第二進(jìn)料斗、第二電機(jī)以及兩個(gè)第二研磨輥;
所述第二研磨倉(cāng)安裝于所述底座頂部,所述第二進(jìn)料斗安裝于所述第二研磨倉(cāng)頂部,所述第二電機(jī)安裝于所述第二研磨倉(cāng)后端,兩個(gè)所述第二研磨輥一端與所述第二電機(jī)驅(qū)動(dòng)端連接,另一端與所述第二電機(jī)驅(qū)動(dòng)端連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米材料的自動(dòng)化研磨設(shè)備,其特征在于,所述第一研磨倉(cāng)底部設(shè)有第一收集箱。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種納米材料的自動(dòng)化研磨設(shè)備,其特征在于,所述第二研磨倉(cāng)內(nèi)部設(shè)有第二收集箱。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種納米材料的自動(dòng)化研磨設(shè)備,其特征在于,所述第二研磨倉(cāng)側(cè)壁設(shè)有開關(guān)門。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種納米材料的自動(dòng)化研磨設(shè)備,其特征在于,所述開關(guān)門上安裝有把手。
說(shuō)明書: 一種納米材料的自動(dòng)化研磨設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本實(shí)用新型涉及納米技術(shù)技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種納米材料的自動(dòng)化研磨設(shè)備。背景技術(shù)[0002] 納米材料原則上描述的是指單個(gè)單元的尺寸(至少一維)在1至1000納米(10?9)之間,但通常為1至100納米之間(納米級(jí)的通常定義[1])的材料,并且這一基本顆粒的總數(shù)量
在整個(gè)材料的所有顆??倲?shù)中占50%以上;納米材料廣義上是三維空間中至少有一維處于
納米尺度范圍或者由該尺度范圍的物質(zhì)為基本結(jié)構(gòu)單元所構(gòu)成的材料的總稱;由于納米尺
寸的物質(zhì)具有與宏觀物質(zhì)
聲明:
“納米材料的自動(dòng)化研磨設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)